Camera di taglio
1. Materiale: ghisa, HT 250
2. Applicazione: apparecchiature elettroniche, attrezzature per macchinari, apparecchiature chimiche
3. Elaborazione di lavorazione: lavorazione + trattamento della superficie dell'elettroforesi.
4. Max Dimension (mm): (l x wxh)=5435 mm × 2430 mm × 3430 mm (incluso cantilever)
5. Tolrenza: Surface Parallelism 0. 0 2 mm, posizione 0. 02 mm, planarità 0,02 mm
6: Peso: 1000kg - 10000 kg
Camera di taglio vs. Servizio di lavorazione CNC
La camera di taglio viene utilizzata principalmente per tagliare il silicio monocristallino solare, il silicio policristallino e altri materiali. È particolarmente adatto per il taglio efficiente di wafer di silicio di grandi dimensioni, come 182 × 182 mm, 182 × 210 mm, 210 × 210 mm, 230 × 230 mm e 210 semiconfere.
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Dettagli |
Materiale |
HT250 |
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Tecnologia di elaborazione |
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Peso |
5663kg 9769 kg |
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Parametri tecnici |
Dimensione massima del pezzo: 230× 230 × 950 millimetri Dimensione del rullo:Φ150 mm -Φ160 mm× 960 mm (lunghezza del rivestimento) Capacità di archiviazione della ruota del filo: 120-240 km Diametro del filo di taglio:Φ0. 025 - 0. 06 mm Taglio della velocità del filo:Meno o uguale a2400 m/min Spaziatura a rulli: 310 mm (105× 210 mm / 91× 182 millimetro) 360 mm (182× 182 mm / 182× 210 mm) 395 mm (210× 210 millimetro) 410 mm (230× 230 millimetro) Alimentazione / consumo di energia: 3- Fase 380V / 120 KVA (max 260 KVA) Volume del fluido di taglio: 800 L Dimensioni della macchina (l× W × H): 5435 mm× 2430 mm× 3430 mm (incluso il cantilever) |
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Gruppi di clienti target |
L'industria manifatturiera è uno dei principali gruppi di clienti per tagliare le macchine. Include vari settori, come elettronica, macchinari, sostanze chimiche e altro ancora. |
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Tempo di elaborazione |
89H |
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